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晶兴公司三项实用新型专利获授权

作者: 李宏哲 郭丽梓 来源: 本站原创 发表时间: 2013-04-01 已浏览 字号:

 

  中国晶龙网讯(通讯员 李宏哲 郭丽梓)近日,从晶龙集团晶兴公司传来喜讯:该公司三项创新项目被国家知识产权局授予实用新型专利。

“一种改进的单晶炉热屏导流筒”通过改进单晶炉热屏导流筒,使晶体内的等温线更平坦,降低了加热器消耗和等径功率,增加了晶体生长速度,节约了生产成本“一种改进排气口的单晶炉”通过改进单晶炉排气口,可以减少废气孔堵塞的几率,阻止漏硅时高温熔硅直接流入不锈钢管道,有效保护不锈钢炉底“一种用于单晶炉的导流筒”减少了石墨制成的导流筒本体与单晶原料接触的几率,有效控制了单晶硅碳含量超标的概率,使得单晶品质不断提升另外,新装置加料完成后不用取出,直接进行拉晶工艺操作,节约了取出加料器所耗费的时间,避免了二次污染,保障了晶体生长环境,有效提高了单晶产出量和单晶品质。

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